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  • KLA-Tencor Spectra-Shape 8660 光學(xué)計(jì)量儀是一種先進(jìn)的半導(dǎo)體晶圓測試和計(jì)量設(shè)備,主要用于精確測量半導(dǎo)體晶圓的特征尺寸和形狀。該系統(tǒng)采用光學(xué)技術(shù),能夠?qū)χ睆竭_(dá)300毫米的晶圓進(jìn)行高精度的CD(Critical Dimension)測量和形狀測量。

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    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    更新日期:2024-09-23
  • KLA-Tencor Puma 9100 晶圓檢測儀是一款先進(jìn)的半導(dǎo)體晶圓測試和計(jì)量設(shè)備,廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)及研發(fā)領(lǐng)域。該設(shè)備具有高精度和可重復(fù)性的特點(diǎn),能夠提供精確的微觀級測量能力。它配備了易于使用的裝載端口、機(jī)器人和光學(xué)檢查功能,以及多軸平臺,用于實(shí)現(xiàn)精確的微米級測量。Puma 9100 還集成了圖像傳感器和智能系統(tǒng),以確保光學(xué)測量的準(zhǔn)確性,并且具備自動化的樣品處理能力,可以進(jìn)行檢查區(qū)域的成像

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    廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    更新日期:2024-09-23
  • KLA-Tencor Puma 9000 晶圓檢測儀 是一款先進(jìn)的晶圓檢測和計(jì)量設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造業(yè)。該系統(tǒng)利用KLA-Tencor創(chuàng)新的Streak™暗視野成像技術(shù),成功克服了傳統(tǒng)掃描激光與光電倍增管(PMT)式檢測系統(tǒng)的限制,從而達(dá)到業(yè)界領(lǐng)xian的效能。

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    更新日期:2024-09-23
  • KLA-Tencor AIT XUV 晶圓檢測儀是一款先進(jìn)的晶圓測試和計(jì)量設(shè)備,主要用于半導(dǎo)體行業(yè)的高精度檢測。該系統(tǒng)采用超紫外(UV)模式匹配技術(shù)和最新一代的Datalite軟件,能夠以極gao的速度和精度檢測出1/10000毫米大小的小缺陷。此外,它還具備激光掃描功能,可以進(jìn)行300mm晶圓的雙暗場光學(xué)檢查,具有更高的吞吐量和靈敏度,適用于65nm生產(chǎn)需求。

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    更新日期:2024-09-23
  • KLA-Tencor AIT XP 晶圓檢測儀是一款功能強(qiáng)大且高效的晶圓測試和計(jì)量設(shè)備,通過其先進(jìn)的檢測技術(shù)、自動化功能和模塊化設(shè)計(jì),能夠顯著提升半導(dǎo)體制造過程中的缺陷檢測能力和生產(chǎn)效率。該系統(tǒng)能夠在80秒內(nèi)完成整個(gè)圖案化晶圓的檢查,并且具有較高的缺陷捕獲率,這使得其相比現(xiàn)有系統(tǒng)可以提高多達(dá)75%的吞吐量。KLA-Tencor AIT XP 使用暗場顯微鏡技術(shù)進(jìn)行缺陷檢測,結(jié)合混合模式檢測.

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    更新日期:2024-09-23
  • KLA-Tencor AIT II 晶圓檢測儀是一種先進(jìn)的晶圓測試和計(jì)量系統(tǒng),專為半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)具有多種功能和特點(diǎn),使其在晶圓缺陷檢測和過程控制方面表現(xiàn)出色。 KLA-Tencor AIT II 支持不同尺寸的晶圓,包括200mm、300mm甚至450mm。它采用雙暗場檢查工具,并具備SECS/GEM通信接口,能夠?qū)崿F(xiàn)高通量的自動化測試。

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    更新日期:2024-09-23
  • KLA-Tencor AIT I 晶圓檢測儀是一種用于檢測圖案化晶圓表面缺陷的系統(tǒng)。 該系統(tǒng)配置為處理6英寸(150毫米)和8英寸(200毫米)的晶圓,并具備自動對焦和雙暗場檢查功能。 此外,它還配備了多通道采集光學(xué)系統(tǒng)、獨(dú)立可編程的空間濾波器以及X/Y驅(qū)動/控制器機(jī)架和運(yùn)動控制器卡。

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    更新日期:2024-09-23
  • KLA-Tencor 2351 晶圓檢測儀是一種先進(jìn)的晶圓和掩模檢測系統(tǒng),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)。該系統(tǒng)具備多種功能,包括高分辨率成像、自動化分析以及專門的缺陷檢測和過程改進(jìn)設(shè)備。它利用激光掃描技術(shù)來檢測和分類半導(dǎo)體晶片上的缺陷,以提高產(chǎn)率,并提供全場自上而下的掃描、600倍或1000倍放大資產(chǎn)等高性能缺陷審查模型。

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    更新日期:2024-09-23
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